Spin-Coater
Anlagen zur Fotolackbearbeitung
Beschichtungsspinner zum Auftragen von Nanofilmen
Fotolithografie und Aufbringen dünner Polymerfilme
Gleichmäßiges Auftragen von Dünnschichten mittels Spin-Coating

Produktbeschreibung:

Qualtech-Produkte – Industrie Spin-Coater ist ein Profi Anlagen zum Auftragen von Polymerfolien zum Aufbringen einer gleichmäßigen dünnen Schicht oder einer ultradünnen Polymerschicht auf Probenoberflächen und Substrate, einschließlich Wafern.

Beim Spin-Coating wird eine kleine Menge einer flüssigen Probe in die Mitte der Probe oder des Substrats, z. B. eines Wafers, aufgetragen. Zu Beginn des Auftragens der flüssigen Probe befindet sich der Wafer in der Regel nicht in Bewegung oder dreht sich mit sehr geringer Geschwindigkeit. Nachdem die flüssige Probe auf den Wafer aufgetragen wurde, wird die Drehzahl auf ein sehr hohes Niveau erhöht, damit sich die flüssige Probe automatisch von der Mitte des Wafers über die gesamte Oberfläche verteilt und eine gleichmäßige Beschichtung entsteht.

Die Dicke der aufgetragenen Beschichtung hängt von einer Reihe von Faktoren ab, darunter:

• die Viskosität der flüssigen Probe,
• die Konzentration der flüssigen Probe,
• die Drehzahl des Wafers.

Dieser professionelle Spin-Coater wurde unter Einsatz modernster Mikrochip-Technologie entwickelt und konstruiert und verfügt über ein großes Touchscreen-Display mit Hintergrundbeleuchtung, ein hochpräzises Vakuumsystem, einen präzisen Hochleistungsmotor, eine schnelle Beschleunigung, eine stufenlose Drehzahlregelung, fortschrittliche Präzisionssensoren, integrierte Sicherheitsfunktionen, eine vollautomatische, programmgesteuerte Steuerung mit benutzerfreundlicher Programmierung, eine benutzerfreundliche Probenhandhabung, eine stufenlose Drehzahlregelung, hohe Genauigkeit und Präzision, ein ergonomisches Design, zuverlässige Leistung, Langlebigkeit und vieles mehr.

Diese fortschrittliche Spin-Coating-Anlagen wird für eine Vielzahl von Substraten empfohlen, darunter Siliziumwafer, Keramikwafer, Glasplatten und ähnliche Substrate, und wird häufig zur Herstellung von Dünnschichten und ultradünnen Schichten im Nanobereich eingesetzt, unter anderem in der Fotolithografie.

Dieser professionelle Spin-Coater wurde gemäß internationalen Prüfnormen entwickelt und konstruiert.